国产光刻机入选工信部推广目录产业链这些上市公司“有料”

　　每经记(jì)者朱成祥每经编(biān)辑(jí) 梁(liáng)枭

　　近期，工信微报微信公众号发文披露《首(shǒu)台（套）重大技(jì)术装备推广应用指(zhǐ)导目录（2024年版）》。其中，在电子专用(yòng)设备一栏，氟化氪光(guāng)刻机、氟化氩光刻机位列其中。该(gāi)资料显示，氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以(yǐ)下(xià)的套刻精(jīng)度。

　　据 东兴证券研报，光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机，市场主流有i-Iine（汞线(xiàn)）、KrF（氟化氪）、ArF（氟化氩）、ArFi（浸润式氟化氩）、EUV（极紫外(wài)）五大类。

　　此次入(rù)选推广目录的氟化氩光刻(kè)机，应(yīng)属于(yú)干式ArF光刻机。在具体指标上，与ASML旗下TWINSCAN NXT：1470 以及TWINSCAN XT：1460K类似。

　　国产光刻机实力几何？

　　据工信微报发文，此(cǐ)次(cì)指导目录是(shì)为促进首台（套）重大技术装备创新发展和推广应用(yòng)，加强产业(yè)、财政、金融、科技等国家支持(chí)政策的协同。

　　具体来看，氟化氪光刻机晶圆直径为300mm（12英寸），照明(míng)波长为248mm，分辨率≤110nm，套刻≤25nm。相比之下，阿(ā)斯麦（ASML）的氟化氪光刻机型号有TWINSCAN NXT：870、TWINSCAN XT：860N 和 TWINSCAN XT：860M。这三个型号，波长(zhǎng)均为248mm，分辨率≤110nm。

　　而指导目录中更为先进的氟化氩光刻(kè)机，其照明波(bō)长为193mm，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。这一数据与ASML旗下(xià)TWINSCAN XT：1460K 最为接近。该型号(hào)照明波长为193mm，分辨率≤65nm。此(cǐ)外，该系统可以在偏(piān)振照明(míng)下实现(xiàn)低至57nm的生(shēng)产分辨率。

　　相比(bǐ)之下，ASML浸润(rùn)式光刻机TWINSCAN NXT 1980Fi分辨率≤38nm。据民生证券研报，该(gāi)型号可实现2.5nm的套刻精度（MMO）。

　　据东海证券援引(yǐn)ASML官(guān)网数据，2023年各类光刻机均价为：EUV（17386万欧元）、ArFi（7196万欧元）、ArFdry（2742万欧元）、KrF（1192万欧元）、i-Iine（399万欧元(yuán)）。

　　东海证券认(rèn)为，目前光刻机(jī)国产(chǎn)化率仅为(wèi)2.5%，整机技术与海外差距较大，5~10 年内90nm、28nm光国产光刻机入选工信部推广目录产业链这些上市公司“有料”(guāng)刻机的研发量产较为关键。

　　光刻机产业链亟须(xū)发展

　　东海证券称，根据中国国(guó)际招(zhāo)标网信息，半导体设备招标中，刻蚀(shí)、沉积等核心设(shè)备的国产化率获得了较大的提升，核心在(zài)于技术上我国相关企业已经逐步追赶(gǎn)上海外(wài)企业(yè)；但光刻机作为核心设备，国产(chǎn)化率不足3%，核心原因(yīn)在于零组件(jiàn)供(gōng)应(yīng)与整机技术与海外差距较大。

　　9月18日，东方财富(fù)概念板(bǎn)块中，光刻(kè)机（胶）板块排名(míng)靠前，板块整体涨幅达2.47%。其中，同飞股份、波长光电均收获20%涨停；新莱应材（维权）上涨12.40%。此外，张江高科、海立股份、凯美特气等也涨停。

　　张江高科受关注，主(zhǔ)要因为其曾投资上(shàng)海微(wēi)电子。张江高科于9月10日在投资者交流(liú)平台表示，公司通过子公司上(shàng)海张江(jiāng)浩成创业投资有限公司投资了上海(hǎi)微电子2.23亿元，持(chí)有上海微电子10.779%的股(gǔ)权，后续未增持或减持。

　　东兴证券(quàn)称，上海微电子是我(wǒ)国第一家(jiā)也是目(mù)前唯一的光刻机巨头，出货(huò)量占国内市场份额超过80%，产品主(zhǔ)要涉及ArF、KrF和i-line领域，其已具备90nm及以下的芯片制造能力。

　　光刻机零部件方面(miàn)，同飞股份曾在2023年中报表示，其(qí)液体恒温设备(bèi)在半导(dǎo)体制造设备领域，主要应(yīng)用于光刻机、刻蚀机、研磨(mó)抛光机等(děng)关(guān)键设(shè)备的温度控制。

　　不过，根据东兴证券研报，光(guāng)刻机核(hé)心组件包括光源系(xì)统、双工作(zuò)台、物镜系统、对准系统、曝光(guāng)系统、浸(jìn)没系统、光栅系统等。配套设施包括光刻胶、掩膜版、涂胶(jiāo)显影等。

　　光源系统方面，据华金证(zhèng)券，针对准激光光(guāng)源，科益虹源主要研(yán)发(fā)248nm准分子激光器、干式193nm准分子激光器等(děng)；福晶科技研发KBBF晶体。

　　另(lìng)据东兴证券，波长光电为国内激光光学元(yuán)件的主要供应商，目前，公司(sī)已具备提供光刻机配(pèi)套的大孔径光学镜头的能力(lì)，公司成功(gōng)开发的光(guāng)刻(kè)机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套。

　　波长光电曾于(yú)2023年9月15日披露投资者(zhě)活动记录表称，公司在半导体领(lǐng)域主要涉及两个领域：一个是生产领域，即(jí)曝光机、光刻，公司可提供大口径光学(xué)镜头用于检测，做折反、投射，还可以(yǐ)提供平行光源系统；另一个是检测(cè)领域，公司(sī)可提供检测(cè)设备上的光学元(yuán)件、组件，也可为(wèi)客户定制开发、装(zhuāng)调子系统。

　　物镜系统方面，东兴证券称，茂莱光学光刻机曝光物镜超精密光学元件加工技术已实(shí)现(xiàn)产业化。

　　东海证券研报显示(shì)，中国2023年(nián)进口光刻(kè)机数量高达(dá)225台(tái)，进口金额(é)高达87.54亿美元，进口金额创(chuàng)下历史新高，预计3~5年内我国光刻机(jī)仍主要(yào)依(yī)赖进(jìn)口。一台先进(jìn)的(de)光刻(kè)机有多达10万个零部件，整体来看我国半(bàn)导体(tǐ)零(líng)组件的国产化率非常低，尽管在各个赛道均(jūn)有相关的(de)国有企(qǐ)业在不断发展，但距离海外企业依然有较大的差距，同时(shí)也预示(shì)着国内零组(zǔ)件企业公司有(yǒu)较大的发(fā)展机遇(yù)。

责任(rèn)编辑：公司观察

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