国产光刻机入选工信部推广目录产业链这些上市公司“有料”

　　每经记者朱(zhū)成祥每(měi)经编辑梁(liáng)枭

　　近期(qī)，工信微报微信公众号发(fā)文披露《首台(tái)（套）重大技术装(z国产光刻机入选工信部推广目录产业链这些上市公司“有料”huāng)备推广(guǎng)应(yīng)用指导目(mù)录（2024年版）》。其(qí)中，在电子专(zhuān)用(yòng)设备一栏，氟化氪光刻(kè)机、氟化氩光刻机位列其(qí)中。该(gāi)资料显(xiǎn)示，氟化氩光刻机具有65纳米(mǐ)以(yǐ)下的分(fēn)辨率和8纳米以下的套刻精(jīng)度。

　　据东兴证券研(yán)报，光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机，市场主流(liú)有i-Iine（汞线）、KrF（氟化氪）、ArF（氟化氩）、ArFi（浸润式氟化氩）、EUV（极紫(zǐ)外）五大类。

　　此次入(rù)选推广目录的氟(fú)化氩(yà)光刻(kè)机，应(yīng)属于干式ArF光刻机。在具体(tǐ)指标上，与(yǔ)ASML旗下TWINSCAN NXT：1470 以及TWINSCAN XT：1460K类似。

　　国(guó)产光刻机实力几何？

　　据工(gōng)信微报发文，此次指导目录是为(wèi)促进首台（套）重大技术装备创新发展和推广应用(yòng)，加强产(chǎn)业、财政、金融、科技等国家支(zhī)持政策的协同。

　　具体来看，氟化氪光刻机晶(jīng)圆直径为300mm（12英寸），照明波长为248mm，分辨率(lǜ)≤110nm，套刻≤25nm。相比之下，阿斯麦（ASML）的(de)氟化氪光刻(kè)机型号(hào)有TWINSCAN NXT：870、TWINSCAN XT：860N 和 TWINSCAN XT：860M。这三个(gè)型号，波(bō)长均(jūn)为(wèi)248mm，分辨率≤110nm。

　　而(ér)指导目录中更为(wèi)先进的氟化氩光刻机(jī)，其照(zhào)明波长为193mm，分辨率(lǜ)≤65nm，套刻≤8nm。这一数据(jù)与ASML旗下TWINSCAN XT：1460K 最为接近。该型号照明波长为193mm，分辨(biàn)率≤65nm。此外(wài)，该(gāi)系(xì)统可(kě)以在偏振照明下实现低至57nm的生产分辨率。

　　相比之下，ASML浸润式光刻机TWINSCAN NXT 1980Fi分辨率≤38nm。据民(mín)生证券研报，该型号可实现2.5nm的套刻精(jīng)度（MMO）。

　　据东海证券援引ASML官网数据，2023年各类光(guāng)刻机均价为：EUV（17386万欧元）、ArFi（7196万欧元）、ArFdry（2742万欧元）、KrF（1192万欧元）、i-Iine（399万欧元）。

　　东海证券认为，目前(qián)光刻机国产化率仅为(wèi)2.5%，整(zhěng)机(jī)技术与海外差距较大(dà)，5~10 年内90nm、28nm光刻机(jī)的研发量产较为关键(jiàn)。

　　光刻机产业链(liàn)亟须发展(zhǎn)

　　东海证券称，根据中国国际招标(biāo)网信息，半导体(tǐ)设备招标中，刻蚀、沉(chén)积等核(hé)心设备的(de)国产化率获得(dé)了(le)较大(dà)的(de)提升，核(hé)心在于技术上我国相关企(qǐ)业已经逐(zhú)步追(zhuī)赶上(shàng)海外企(qǐ)业；但(dàn)光刻机(jī)作为核心设备，国产化率不足3%，核心原因在于零(líng)组件供应与整机技(jì)术与海外差距较大。

　　9月18日，东方财富概念板块中(zhōng)，光刻机（胶）板块排名靠前，板块整体涨(zhǎng)幅(fú)达2.47%。其中，同飞股份、波长光电均收(shōu)获20%涨停；新莱(lái)应材（维权）上涨12.40%。此外，张江高科、海立股份、凯(kǎi)美特气等也涨停。

　　张江高科受(shòu)关(guān)注，主要因为其曾投资上海微电子(zi)。张江高科于(yú)9月10日在投(tóu)资者交流平台表示(shì)，公司通过子公司(sī)上(shàng)海张江浩成创业投资有限公司(sī)投资了上海微电子2.23亿元，持有上海(hǎi)微电子10.779%的股权，后续未增持或减持。

　　东兴证券称，上海微电(diàn)子是我国(guó)第一家也是目前唯一的(de)光刻机巨头，出货量占国内(nèi)市场份额超过80%，产品主要涉及ArF、KrF和i-line领(lǐng)域，其已(yǐ)具备90nm及以下的芯片制造能力(lì)。

　　光刻机零部件方面，同(tóng)飞股份曾在2023年中报表示(shì)，其液体恒温设(shè)备在半导体制造设(shè)备(bèi)领域，主(zhǔ)要应(yīng)用于(yú)光刻(kè)机、刻蚀机、研磨抛光机等关键设备的温(wēn)度控制(zhì)。

　　不过(guò)，根据东(dōng)兴证券研(yán)报，光刻机核心(xīn)组(zǔ)件包(bāo)括光源系统、双工作台(tái)、物镜系统、对准系统、曝(pù)光系统、浸没系(xì)统(tǒng)、光栅系统(tǒng)等。配套设施包括光(guāng)刻胶、掩膜版、涂胶显影等。

　　光源(yuán)系统方面(miàn)，据华金证券，针对准激(jī)光光源，科益虹源(yuán)主要研发248nm准分子激光(guāng)器、干式193nm准分子激光器等；福晶科技(jì)研发KBBF晶体。

　　另(lìng)据东兴(xīng)证券，波(bō)长光电为(wèi)国内激光光学元件的主要供应商，目前，公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力，公司(sī)成功开发的光刻机平行光源(yuán)系(xì)统可用于国产光刻机领(lǐng)域(yù)配套。

　　波长(zhǎng)光电曾于2023年9月15日披(pī)露投资(zī)者活动记录表(biǎo)称，公司在半导体领域(yù)主要(yào)涉及两(liǎng)个领域：一个(gè)是生产领域，即曝光机、光刻，公司可(kě)提供大口径光学镜头用于检测，做折反、投射，还可以提供平行光源系统；另一个是检测领域，公司可提供检测设备上的光学元件、组件，也可(kě)为(wèi)客户定(dìng)制开(kāi)发、装调子系统。

　　物镜系统方(fāng)面，东兴证(zhèng)券称，茂莱(lái)光学光刻机曝(pù)光物镜超精密光(guāng)学(xué)元件加工技术已(yǐ)实现产业化。

　　东海证券研报(bào)显示，中(zhōng)国2023年进(jìn)口光刻机数量高达225台，进口金额高达87.54亿美元，进口金额创下历史新高，预(yù)计3~5年内我国光刻机仍主要依赖进口(kǒu)。一台先进的(de)光刻机有多达10万个零部件，整体来看我国半(bàn)导体零组件的国产化率非(fēi)常(cháng)低，尽(jǐn)管(guǎn)在各个赛道均有(yǒu)相(xiāng)关的国有企业在(zài)不断发展(zhǎn)，但距离海外企(qǐ)业依(yī)然有较大的差距(jù)，同时也预示着国(guó)内零组件企业公司有(yǒu)较大的发展机遇。

责(zé)任编辑：公司观察

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